- 垂直量程：0.1nm 至 10mm；垂直分辨率：0.1nm
- 电动样品台移动范围：±150mm (XY 轴 )/100mm(Z 轴 )
- 横向取样间隔：0.1µm 至 13.2µm
- 光学横向分辨率：最高 350nm
- 倾斜调整：手动样品台调节 ± 6°
- 垂直扫描速度：最快 47um / 秒
- 最小结构尺寸0.5 μm，具有3个不同分辨率(10X，20X，50X)物镜镜头
- 支持基底厚度1-15 mm， 支持Z轴AutoFocus 基底翘曲100 μm
- 支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光多种曝光模式
- 套刻精度：小于500 nm
- 支持基片5 mm×5 mm-150 mm×150 mm任意尺寸
- X-Y 移动速度: 175 mm/second
- 最小倒吸液体量: 1 μL
- 最小喷量: 1.3 nL
- 单滴喷点: 1.3 nL – 4 μL
- 可重复性 ： < ± 10 μm (或者95%)
探针光学轮廓仪
GT-K
具有完善的表面测量和分析功能，满足各种表面测量的实际需求
名称：
探针光学轮廓仪
品牌：
Bruker
型号：
GT-K
仪器介绍：
ContourGT-K 三维光学轮廓仪具有完善的表面测量和分析功能，拥有较高的测量性能和灵活性。采用白光干涉技术，大视野内埃级至毫米级的垂直计量量程，具有高垂直分辨率和测量重复性。其直观的用户界面方便用户快速高效的获得材料表面粗糙度、二维 / 三维表面轮廓以及多种高精度数据，广泛应用于 IC 半导体、LED、太阳能电池、薄膜材料、MEMS、精密机械零部件、摩擦磨损等领域，满足各种表面测量的实际需求。
仪器参数：
无掩模直写光刻机
MicroLab
405nmLED紫外光源DMD数字微镜直写曝光，可以用于掩模板制作，亚微米及以上任意2D图案曝光和128级3D灰度曝光。
名称：
无掩模直写光刻机
品牌：
苏大维格
型号：
MicroLab
仪器介绍：
无需掩模版，用户利用计算机生成数字图形模板，直接通过DMD和经过精缩物镜投影到基底上进行图形作业。可制作各种亚微米级器件的微结构。支持正胶和负胶。支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式。
仪器参数：
压电式微量喷墨点阵制备系统
AD3220
专为生物芯片和生物传感器研究而设计的点样系统
名称：
压电式微量喷墨点阵制备系统
品牌：
Biodot
型号：
AD3220
仪器介绍：
Biodot AD3220是专为生物芯片和生物传感器研究而设计的点样系统，点样过程通过电脑控制, 精度高，适合研究型实验室的小型试验及小批量的生产。配置喷点系统，并可以选配膜平台，玻片平台或微孔板平台，功能灵活多样。可制作基因芯片、蛋白芯片，微孔板芯片，细胞芯片和生物传感器。
仪器参数：